 
为(wei)(wei)了更(geng)好地符合CIDM以及(ji)其他电源芯片(pian)之建设(she)项目及(ji)加工制(zh🦄i)🎉造技术的(de)(de)必(bi)(bi)须，我們將作(zuo)为(wei)(wei)其必(bi)(bi)备(bei)的(de)(de)光掩(yan)网(wang)站(zhan)模(mo)(mo)板(ban)(ban)（Photomask）创造及(ji)相关(guan)联的(de)(de)的(de)(de)服务(wu)。小编将(jiang)倒入各(ge)样好的(de)(de)光掩(yan)模(mo)(mo)板(ban)(ban)制(zhi)作(zuo)创造生(sheng)产设(she)备(bei)，以作(zuo)为(wei)(wei)0.5微米(mi)换(huan)算到28奈米(mi)方法的(de)(de)高品性过去的(de)(de)二(er)元光掩(yan)文档模(mo)(mo)板(ban)(ban)（Binary Mask）、光学玻璃趋近计算光掩(yan)网(wang)站(zhan)模(mo)(mo)板(ban)(ban)（Optical Proximity Correction Mask）及(ji)相位移光掩(yan)模(mo)(mo)板(ban)(ban)开发（Phase
Shift Mask）。
芯恩光(guang)(guang)(guang)掩文(wen)档摸版厂有了十余位在(zai)光(guang)(guang)(guang)掩文(wen)档摸版行(xing)业(ye)阅(yue)历突破15年上的(de)(de)(de)(de)厂家(jia)，均应具充沛行(xing)业(ye)的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)掩样(yang)例建厂、服(fu)务(wu)管理(li)与(yu)(yu)能(neng)力搭建等实际经验值，并将(jiang)(jiang)再度引入各式(shi)(shi)(shi)各样(yang)先进性的(de)(de)(de)(de)深分(fen)光(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)度计线(xian)（DUV）脉冲激(ji)光(guang)(guang)(guang)式(shi)(shi)(shi)与(yu)(y🅷u)电子(zi)为了满(man)足电子(zi)时(shi)代发(fa)展的(de)(de)(de)(de)需求，束(shu)式(shi)(shi)(shi)（E-Beam）光(guang)(guang)(guang)掩钢(gang)(gang)板光(guang)(guang)(guang)刻操作(zuo)整(zheng)(zheng)(zheng)体(ti)、干湿分(fen)离(li)式(shi)(shi)(shi)光(guang)(guang)(guang)掩钢(gang)(gang)板显影(ying)液蚀刻操作(zuo)整(zheng)(zheng)(zheng)体(ti)、光(guang)(guang)(guang)电技(ji)术式(shi)(shi)(shi)与(yu)(yu)扫视自动(dong)化束(shu)式(shi)(shi)(shi)光(guang)(guang)(guang)掩钢(gang)(gang)板线(xian)宽(kuan)量(liang)测操作(zuo)整(zheng)(zheng)(zheng)体(ti)、光(guang)(guang)(guang)掩钢(gang)(gang)板叠对量(liang)测操作(zuo)整(zheng)(zheng)(zheng)体(ti)、光(guang)(guang)(guang)掩钢(gang)(gang)板障碍检则操作(zuo)整(zheng)(zheng)(zheng)体(ti)、激(ji)光(guang)(guang)(guang)手术式(shi)(shi)(shi)与(yu)(yu)焦点式(shi)(shi)(shi)阴离(li)子(zi)束(shu)（FIB）式(shi)(shi)(shi)光(guang)(guang)(guang)掩微信小程(cheng)序摸版问题缝补平(ping)台及相(xiang)位移光(guang)(guang)(guang)掩微信小程(cheng)序摸版生(sheng)产(chan)与(yu)(yu)考察平(ping)台之类，我门将(jia🎉ng)(jiang)严格规(gui)范(fan)写好投资(zi)者制(zhi)(zhi)模的(de)(de)(de)(de)资(zi)料（Tooling Data）的(de)(de)(de)(de)平(ping)安管理(li)工作(zuo)，以服(fu)务(wu)顾客的(de)(de)(de)(de)智慧网财产(chan)分(fen)割权，并勤奋优(you)化网络生(sheng)产(chan)工艺(yi)良率及调节光(guang)(guang)(guang)掩钢(gang)(gang)板产(chan)品质量(liang)，并且增(zeng)强光(guang)(guang)(guang)掩钢(gang)(gang)板的(de)(de)(de)(de)制(zhi)(zhi)造技(ji)术意识，以改变光(guang)(guang)(guang)掩钢(gang)(gang)板的(de)(de)(de)(de)货(huo)期，来滿足CIDM极其他业(ye)主(zhu)和处理(li)器厂對光(guang)(guang)(guang)掩模版严厉的(de)(de)(de)(de)标准(zhun)。
芯恩光掩模板图片厂工作方案保证的车辆及安全服务，下述：
-
二(er)元光掩摸板（Binary Mask 5009/6012/6025）。
-
光ও(guang)电技术趋近修正的光(guang)🔯掩范本（Optical
Proximity Correction Mask）。
-
相位移光(guang)掩模(mo)板图片(pian)（Phase Shift Mask）
-
光(guang)掩模版网站制模（Mask Tooling）与光(guang)掩模板制作(zuo)光(guang)刻（Mask Lithography）等的♊工程建筑(zhu)谘(zi)询、光(guang)掩范例之门学趋(qu)近修修爱（OPC）的建设项目谘(zi)询。
|
